一家位于比利时的研发机构与 ASML 宣布利用 ASML 最新的价值 3.5 亿欧元的芯片打印机取得重大芯片制造突破。
比利时领先的半导体研发公司 imec 宣布，其与 ASML 的联合实验室在芯片制造技术方面取得了重大突破。这些进步是使用 ASML 最新的 3.5 亿欧元（3.82 亿美元）芯片印刷机实现的。Imec 在 ASML 的新型“高 NA”工具下，一次性成功印刷出与目前商业生产的最佳产品一样小甚至更小的电路，这表明领先的芯片制造商可以使用该工具在未来几年内制造出更小、更快的芯片。
高 NA 工具能够以更少的步骤打印出更小的特征，这有望为芯片制造商节省成本，并证明其高昂的价格是合理的。ASML是最大的光刻系统供应商，而光刻系统对于创建芯片电路至关重要。这一发展表明，芯片制造过程其余部分所需的化学品和工具也已准备就绪，可用于商业制造。Imec 首席执行官 Luc Van den Hove 表示，高 NA 将有助于继续扩展逻辑和内存技术。
英特尔已经购买了前两台 High NA 设备，第三台预计将于今年晚些时候交付给台积电。英特尔光刻总监 Mark Philips 提到，第二台设备是用于支持开发生产线所需的大量晶圆和实验。三星电子、SK 海力士和美光等其他芯片制造商也订购了 High NA 设备，凸显了其在行业中的重要性。
尽管第四季度前景喜忧参半，但美光第三季度的收入仍超出预期，美国商务部支持SK 海力士投资 4.5 亿美元建设 AI 工厂。这些进步和投资凸显了半导体行业持续的创新和增长。
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